2022-628
等离子清洗机的真空度,是影响等离子表面处理效果重要的因素之一。国内品牌的清洗机常用的真空度压力单位基本是帕(Pa),但是不同国外品牌的清洗机就会出现托(Torr)、巴(bar)等单位,相互之间如何换算,有的时候不太容易搞得清楚。今天我们就来梳理一下常见的几个真空压力单位,供大家参考。1等离子清洗机的真空、真空度和压力单位:清洗机是指真空反应腔室里面低于标准大气压的气体状态,微观上来讲就是腔体内的气体分子密度小于大气压的分子密度,不同的真空状态意味着不同的分子密度。真空度反应的...
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2022-627
等离子清洗机(plasmacleaner)也叫等离子清洁机,或者等离子表面处理仪,是一种全新的高科技技术,利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的“活性”组分包括:离子、电子、原子、活性基团、激发态的核素(亚稳态)、光子等。等离子清洁机就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、涂覆等目的。今天小编给大家讲讲等离子清洗机为什么需...
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2022-624
导读:生物安全柜(Biologicalsafetycabinet,BSC)是为操作原代培养物、菌毒株以及诊断性标本等具有感染性的实验材料时,用来保护操作者本人、实验室环境以及实验材料,使其避免暴露于上述操作过程中可能产生的感染性气溶胶和溅出物而设计的。特别是防控以来各医疗机构建设了大量的核酸实验室,都会用到生物安全柜,那么关于生物安全柜如何安全使用,您又了解多少?根据生物安全柜的气流和隔离屏障设计可分为3个等级:Ⅰ级、Ⅱ级(A1、A2、B1、B2型)和Ⅲ级。应根据实验样品的生...
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2022-620
随着半导体工业的迅速发展,对晶圆片加工的要求也迅速提高。硅片需去除光刻胶,且需提升硅片材料表面的粘合剂、去除有机污染物等要求,由于其种种原因,目前硅片需去除光刻胶,一般都是采用等离子清洗方式,以解决光刻胶问题。为了了解去除光刻胶的原理,首先要弄清楚光刻胶上含有哪些杂质和污染物,然后对这些杂质和污染物进行分类。在半导体制造过程中,需要一些有机物污染物和氧化物的存在,而且由于工艺过程总是在净化室中有人工操作,因此半导体圆片不可避免地受到各种杂质的污染。根据来源、性质等,可大致分为...
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2022-616
PTFE通过等离子清洗机处理,不光能提高材料表面粘接能力,还可以实现:1、等离子清洗机低温等离子体蚀刻:在低温等离子体蚀刻的整个过程中,被蚀刻的物体会变成气相。使用机械泵将多余的生成物的排出,并用新鲜气体持续覆盖表面,蚀刻部分不会被材料覆盖(例如,半导体材料工业生产使用铬作为覆盖材料)。等离子体的方法也可以用来蚀刻塑料表面,并且化合物可以被灰化。作为塑料包装在印刷粘合中的预备处理方法,如POM、PPS、PTFE等,蚀刻方式是非常必要的,低温等离子清洗机可以显著增加湿润面积提高...
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2022-613
等离子清洗机分为大气式和真空式,大气常压电浆式清洗机又称大气等离子清洗机、真空电浆式清洗机。比如在打印、粘合前处理等,咱们可以运用大气等离子清洗机,因为大气等离子清洗机能够在线铲除。等离子清洗机是运用低温等离子体发生非平衡电子、反响离子和自由基的能力。高能量基团在等离子体中炮击外表,引起溅射、热蒸腾或光降解。清洗机是运用等离子体中各种高能量物质的活化,对物体外表吸附的污垢进行*的剥离。大气清洗机首要由等离子发生器、输气管、等离子喷嘴等组成。由等离子体发生器发生的高压高频能量在...
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2022-69
近些年微电子行业的快速发展,对微电子行业的配件要求也越来越高。利用等离子体技术进行给这些小配件进行工艺制造,使微电子器件的小型化成为可能。在线路板、半导体以及太阳能等工业中,等离子清洗工艺用来解决这些材料之间的表面粘接电镀等一系列的问题,逐渐成为*的关键技术。印刷线路板生产过程中,尤其是高密度互连板,需要对孔型进行粗化处理,通过金属孔实现层间电气导通。在钻孔过程中,激光孔或机械孔常有残留物粘附在孔内,应在下一道工序前除去。平时俗称“除胶渣”,当前,去除胶渣主要有湿法处理工艺,...
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2022-66
等离子清洗机中的等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四种状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。在真空腔体里,通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体,通过等离子体轰击被清洗产品表面。以达到清洗目的。等离子清洗机清洗原理:1.激活...
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